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上述两种抛光作用是不同的,以钢在*型抛光液中的抛光为例说明。在抛光过程中钢的电*电位和溶解速度随浓度的变化情况如图4-2所示。即随着浓度的增加,钢材的电*电位也逐渐提高,同时溶解速度随之减小。钢的平滑化是由低电位区域的溶解作用形成的,而光泽化则是由高电位区域的溶解作用形成的。钢表面电位的升高是由表面形成的一些稳定的氧化膜固体所致,正是由于这种稳定氧化膜的形成,使零件光泽化。而平滑化可能是由金属离子或溶解生成物的扩散层导致的。




依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,化拋剂,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。




抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,化拋剂厂家,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。产品性能稳定、*,对环境*等优点。包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,除镍剂,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,化拋剂价格,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光。1、抛光剂投放量为(根据不同产品的大小,光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置);2、抛光时间:根据产品的状态来定;3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。




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