光纤磁控溅射镀膜机哪家好-沈阳鹏程有限公司

溅射镀膜的特点

溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。

溅射镀膜与真空镀膜相比，有如下特点:

1.任何物质都可以溅射， 尤其是高熔点金属、低蒸气压元素和化合物;

2.溅射薄膜与衬底的附着性好;

3.溅射镀膜的密度高，孔少，膜层纯度高;

4.膜层厚度可控性和重复性好。

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线列式磁控生产线

沈阳鹏程真空技术有限责任公司*生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。

采用*的in-line产线结构，Twin-Mag孪生阴*磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、*的真空系统，CK450B磁控溅射镀膜机哪家好，可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜，并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构，适合大规模光学、电学薄膜的生产，光纤磁控溅射镀膜机哪家好，做到一机多用具有高能效、高可靠性、低成本的优势。

本产品可广泛应用于触摸屏ITO镀膜、LCD显示屏ITO镀膜、薄膜太阳能电池背电*及AZO镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、AR镀膜、装饰镀膜等产业领域。

溅射镀膜

溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴*靶由镀膜材料制成，基片作为阳*，磁控溅射镀膜机哪家好，真空室中通入0.1-10Pa的气或其它惰性气体，CK300磁控溅射镀膜机哪家好，在阴*（靶）1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的离子轰击靶表面，使得靶原子溅出并沉积在基片上，形成薄膜。溅射方法很多，主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。

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