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磁控溅射法定义是什么？

磁控溅射法是在高真空充入适量的Ar气，在阴*（柱状靶或平面靶）和阳*（镀膜室壁）之间施加几百K直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使Ar气发生电离。Ar离子被阴*加速并轰击阴*靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。

离子溅射镀膜机

多靶离子束溅射镀膜机系统在光学薄膜沉积应用中处于较高地位。多靶离子束溅射镀膜机是当今仅存的在同一系统可互换使用行星型，简单旋转型或可翻转型基片装置的系统。

在通信应用上，能用于沉积高产值的200，100和50GHz具有窄通带,宽截止频带,高隔离度,低插损特性的DWDM滤波器，满足为严格的性能指标。在其它光学应用上，多靶离子束溅射镀膜机能用于沉积增透膜，复杂的非四分之一波长膜层，以及吸收和散射低于百万分位的超低损耗激光镜。

PVD真空镀膜机能镀哪些物件和颜色?

我们生活离不开炫彩靓丽的工具和物件，然后这些看起来视觉效果美观的工具和物件，都是通过镀了一层薄薄的膜，才能实现这样的效果，大到飞机、航母，小到家庭餐具、手表，可以说镀膜工艺，无处不在。随着人们的生活水平不断的提高，对镀膜工艺要求也就越来越高。之前镀膜是通过传统的水镀方式来实现的，现在PVD真空镀膜机镀膜工艺，被更多的人认可和追随。有很多人很疑惑，为什么PVD真空镀膜被那么多人认可，它到底有什么优势？今天至成真空小编为大家详细讲些：

PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的*性和化学稳定性等优点。它主要是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。起初的时候后在高速刀具领域的成功应用引起了*制造业的高度重视，人们在开发、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。

与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的*弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、铰刀、丝锥、钻头、阶梯钻、油孔钻、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

那么PVD能镀出哪些颜色呢？据了解PVD镀膜机镀膜工艺目前能够做出的膜层的颜色有深金*，浅金*，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。在镀膜的过程中通过调控相关参数，可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量，使颜色得以量化，以确定所镀出的颜色是否满足要求。

真空PVD镀膜涂层工艺有那些步骤呢?

今天至成真空小编为大家详细介绍一下真空PVD镀膜涂层工艺操作步骤，它的先后顺序是怎样的，有那些细节和原理是必须要了解的。

首先在处理工艺前，需要褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹。镀膜工艺，抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉。后处理工艺：首先清洗环节，确保真空镀膜机镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能保证镀膜质量；然后再抽真空将真空室内的残余气体抽走。接下来加热烘烤，炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放。压升率测试，测试炉体的漏气率和放气率。轰击清洗，去除工件表面的杂志，露出新鲜表面。镀膜，沉积膜层。冷却，避免工件氧化变色。为什么要进行冷却，镀膜工艺完成后，真空室内温度高达500℃，如果不冷却就放气，没有被镀上膜的高温工件表面会因为与空气反应氧化变成蓝色。