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真空镀膜机设备真空镀膜机系统特点


真空镀膜机在等离子体束溅射中,溅射离子均匀刻蚀靶面,并且不会使靶面产生氧化。与磁控溅射相比,其中的等离子体束是由射频等离子体源产生的,磁场的作用则是使等离子体束会聚并偏转至靶面,因此,虽然等离子体束溅射镀膜系统内也有磁场,但其磁场却并不控制影响溅射,这也摒弃了磁控溅射中由磁场不均匀带来的“磁控”的缺点。在溅射完成后,所得的靶材利用率可高达90%以上。

真空镀膜机即分别进行磁控溅射和等离子体束溅射之后靶面刻蚀的对比图。由于靶材的利用率大幅度提高,也解决了磁控溅射中所难以克服的缺点,即靶中的毒导致的刻蚀不均匀

真空镀膜机此外,磁控溅射由于背面磁铁磁场不均匀而产生溅射跑道,非磁场约束区很容易产生氧化,因此很难沉积铁磁性材料,而等离子体束溅射中由于不用磁铁作为等离子体约束,能够进行铁磁性材料的镀膜,并且可以使用很厚的靶材,图3中实验金属钴的厚度即为6mm。对于铁、镍、铬以及铁磁性化合物,等离子体束溅射也都具有很高的溅射速率。

应用该项镀膜技术的系统还有一个优点,当将电磁线圈的*性反接时,由于磁场的方向产生了变化,等离子体束会在磁场的作用下轰击基片,从而对基片产生清洗作用,如图4所示。这实际上可以使得应用该项技术的镀膜机省略常规镀膜机的清洗用离子源。


真空离子镀膜设备的操作步骤是什么


在操作真空离子镀膜设备时,请参阅设备规格、仪表板指针显示和每个旋钮下的标记说明:检查真空离子镀膜设备操作控制开关处于“关闭”位置。打开主电源开关为设备供电。按“复位”和钮复位整台机器的控制电源。

启动水冷却系统,连接真空离子镀膜设备的冷却水。操作台上的控制方式选择开关是以“自动齿轮”保持泵VP1和VP2启动,助推器泵BP和扩压泵DP启动预热,时间约60分钟。将全缠绕铝线送丝盘放入轴销,然后安装在支撑板上。

铝线通过送丝轮和管道通到蒸发船的顶部,调整弹簧的张力,使压轮不打滑地压紧铝丝,使铝线顺利运输。用石墨纸包裹蒸发舟的两端,然后将其压入电*。关闭蒸发罐挡板。基材卷筒安装在卸料轴上,空卷筒安装在收集器轴上,然后放卷座和卷轴座分别固定。调整基材和筒芯的位置,并将筒芯泵紧。

在触摸屏主控制屏上设置真空离子镀膜设备的卷绕参数,包括直径、宽度、张力、停止直径、卷绕速度、卷绕张力等。根据卷绕流程图,从放电轴绘制基片,并将其缠绕到采集轴,并在操作过程中对薄膜进行紧固和对齐。按下操作台上的“收卷”按钮,收卷系统按设定值进入零速张力保持状态,收卷系统将收卷物料。



多弧离子真空镀膜机工艺如何运用到刀具行业


很多人对多弧离子真空镀膜机其实并不太了解,更不了解镀膜设备的工艺如何运用到刀具行业,很多客户都有这样的疑惑,也经常会问我们这方面的问题,特别是对真空设备的爱好者,今天至成真空小编为大家详解介绍一下多弧离子真空镀膜机工艺如何运用到刀具行业。

为了满足镀膜制和各种多层薄膜及复合化合物薄膜的要求,多功能多弧离子镀膜已成为目前研究发展的方向。多弧离子镀膜设备采用电弧放电的方法,在固体的阴*靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴*弧光辉点放出的阴*物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。多弧离子镀膜采用孪生靶的*技术,克服直流溅射固有的打火等不良弊病,使镀件的耐蚀性能又有所提高和改善。


多弧离子镀膜的中心安装柱状多弧靶,靶材为钛或锆。它不但能保持多弧技术离化率高、沉积速率高的特点,还能有效地降低平面多弧靶沉积过程中很难避免的“液滴”的缺陷,从而可以制备出低孔隙率的金属薄膜或化合特薄膜;在周边安装了孪生平面磁控靶,靶材为铝或硅;中外,在周边安装多个平面多弧蒸发源,靶材为铬或镍,可以镀制多层金属膜和多层复合膜。复合式离子镀膜设备由于具有多种不同形式镀膜装置及不同材质的蒸发源及发射靶,它们既可以*地分别工作又可以同时工作,既能制备纯金属膜又能制备金属化合物膜或复合材料膜;既能制备单层薄膜又能制备多层复合膜,用途*其广泛。


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