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微弧氧化技术特点

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜层为表面多孔(孔径为几微米)、内部致密的陶瓷层。 膜层硬度高(维氏硬度可由几百至三千左右) 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。微弧氧化技术、微弧氧化生产线

2、微弧氧化技术绝缘性好耐热性高,可承受高温使用,微弧氧化生产线,范围根据基材熔点温度 有良好的绝缘性能,绝缘电阻膜阻gt;100MΩ 绝缘耐压gt;5000V/秒。微弧氧化电源、微弧氧化生产工艺







微弧氧化的发展

由于微弧氧化是在阳*氧化膜被电ji穿的基础上进行的,所以在探讨微弧氧化机理时我们要结合电ji穿理论的研究和发展,微弧氧化生产线供货商,从而阐述微弧氧化基本原理。微弧氧化技术就是在电ji穿理论的基础上加以研究和应用的新型表面力一技术。自1932年Betz等观察到电ji穿的现象以来,许多研究者都对电ji穿产生的原因 过各种各样的假设和模型。总体上看,电ji穿理论经历了离子电流机理、热作用机理、机械作用机理以及电子雪崩机理等不同的发展阶段。了解电ji穿原理,对于研究微弧氧化机理,开发新的表面处理技术均有着重要的理论意义。



微弧氧化是通过用*的微弧氧化电源在工件上施加高电压,使工件表面的金属与电解质溶液相互作用,微弧氧化生产线供应,在工件表面形成微弧放电,在高温、电场等因素的作用下,金属表面形成陶瓷膜,达到工件表面强化、硬度大幅度提高、*、耐蚀、耐压、绝缘及*高温冲击特性得到改善的目的。微弧氧化生产线、微弧氧化电源、微弧氧化工艺设备、微弧氧化工艺原理


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