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电磁屏蔽室

电磁屏蔽室就是利用屏蔽材料阻隔或削弱被屏蔽区域与外界的电磁能量传播。电磁屏蔽的原理是利用屏蔽体对电磁能流的反射、吸收和引导，它与屏蔽结构表面和屏蔽体内部产生的电荷、电流与*化现象密切相关。电磁屏蔽室按照其原理分为电场屏蔽（静电屏蔽和交变电场屏蔽）、磁场屏蔽（低频磁场和高频磁场屏蔽）和电磁场屏蔽（电磁波的屏蔽）。通常所说的电磁屏蔽室是指后一种，就是对电场和磁场同时进行屏蔽。

按照屏蔽作用原理，材料屏蔽效能测试，屏蔽体对屏蔽效能的贡献分为3部分：

（1）屏蔽体表面因阻*失配引起的反射损耗；

（2）电磁波在屏蔽材料内部传输时，薄膜屏蔽效能测试，电磁能量被吸收引起传输损耗或吸收损耗；

（3）电磁波在屏蔽材料内壁面之间多次反射引起的多次反射损耗。

由此可以得到影响材料屏蔽效能的3个基本因素，即材料的电导率、磁导率及材料厚度。这也是屏蔽材料研究本身所必须关注的问题和突破口。当然，对于电磁屏蔽体结构，其电磁屏蔽室作用还与结构、形状、气密性等有关，对于具体问题，还需要考虑被屏蔽的电磁波频率、场源性质等。

电磁屏蔽

被动屏蔽和主动屏蔽

根据干扰源相对于屏蔽体的位置（在屏蔽体的内部或外部）．可分为主动屏蔽与被动屏蔽。若屏蔽体用来防止干扰场进入被屏蔽空间，这种屏蔽结构称为被动屏蔽。若干扰源在屏蔽体内部，屏蔽体用来防止干扰场*到外部空间，则称这种屏蔽结构为主动屏蔽。主动屏蔽不适用于高频，而专门用于低频。被动屏蔽体多用于屏蔽对象与干扰源相距较远的场合，导电橡胶屏蔽效能测试，如屏蔽室等。

电磁屏蔽的材料

用什么材料作电磁屏蔽呢？因电磁波在良导体中衰减很快，把由导体表面衰减到表面值的1/e（约36.8%）处的厚度称为趋肤厚度（又称透入深度），用d表示，屏蔽效能测试，有其中μ和σ分别为屏蔽材料的磁导率和电导率。若电磁频率f=100MHz，对铜导体（σ=5.8×107/·m，μ≈μo=4π×10-7H/m）可求出d=0．00667mm。可见良导体的电磁屏蔽效果显著。如果是铁（σ=107/·m）则d=0.016mm。如果是铝（σ=3.54×107/·m）则d=0.0085mm。