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- 名称沈阳鹏程真空技术有限责任公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 董顺
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价格
面议
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- 采购量 不限制
- 发布日期 2020-07-27 01:20 至 长期有效
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脉冲激光沉积介绍
脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,PLA),激光脉冲沉积装置,是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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脉冲激光沉积原理
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脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。
脉冲激光沉积机制
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PLD的系统设备简单,相反,它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,激光脉冲沉积装置价格,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及膜的生成过程。所以,PLD一般可以分为以下四个阶段:
1. 激光辐射与靶的相互作用
2. 熔化物质的动态
3. 熔化物质在基片的沉积
4. 薄膜在基片表面的成核(nucleation)与生成。
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