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离子真空镀膜机

使用的工艺和不锈钢离子镀膜机使用的工艺是一样的,但是不锈钢会多出一个偏压电源,因此也会有差别。因此都离子真空镀膜机,镀膜原理也会有差别。

手表:的手表会在表带或者外壳堵上真金或者玫瑰金等来彰显尊贵,利用离子镀膜技术镀出的膜层在强度性能上非常,且光泽度。餐具:离子镀膜机将钛合金镀膜于餐具上,提升了整体的档次感。而大部分的钛合金不会对*造成损害,可以说是非常健康和环保的材料。模具:对于很多产品的模具来说,本身需求有较高的强度和耐腐蚀性。所以需要离子镀膜机在外层镀膜,使得其硬度、强度、*性和耐腐蚀性能得到一定的增强。灯饰:水晶类的灯饰配合离子镀膜技术带来的绚丽色彩,使得整体的灯光和装饰效果更加地富丽和优雅。且外层镀膜能使得灯饰性能趋于稳定。陶瓷:陶瓷本身具有一定的耐污性和耐腐蚀性性,离子镀膜机在外层再次镀膜的目的在于使得其光泽度和强度能够进一步增加。

①对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。②具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。③成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、*溶剂能力与耐光照能力等性能良好。④与面涂层有良好的相溶性。由于镀膜层*薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。⑤施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。真空镀对面涂层的要求：①与镀膜层要有良好的接触性能;②与底涂层要有一定的相溶性;③成膜性能与施涂性能优良;具有适当的机械强度;④防潮、*溶剂、耐腐蚀性能好。*老化性能强。由于产品的特殊需要，在面涂层上还可进一步施涂超硬涂层或彩色涂层等。

真空镀膜设备镀膜过程的均匀性到底多重要？厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；2、基片表面温度；3、蒸发功率，速率；4、真空度；5、镀膜时间，厚度大小。组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1、晶格匹配度;2、基片温度;3、蒸发速率.对于不同的溅射材料和基片，参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。