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真空泵离子镀膜技术

PVD镀膜(离子镀膜)技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高*性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

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真空泵在真空泵中的作用

有机复合信息存储薄膜研究取得的成果说明真空技术在未来的纳米电子器件的研究中仍占有*其重要的地位。目前超高真空的获得和测量技术已经成熟，但更广泛的应用，

特别是为发展未来信息社会的关键技术一纳米电子器件中，真空技术的应用还是非常有吸引力的课题，大量的工作有待开发。在即将到来的21世纪，真空技术将随着纳米电子学进入信息社会的各个领域，发挥越来越大的作用。

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手机行业的PVD真空泵技术

PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金*，浅金*，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色进行测量，使颜色得以量化，以确定镀出的颜色是否满足要求。

PVD镀膜与传统化学电镀(水电镀)的异同PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，*性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定;PVD镀膜不会产生*或有污染的物质。

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