气相化学沉积设备-沈阳鹏程公司-气相化学沉积设备价格
第一枪帮您来“拼单”,更多低价等你来!气相化学沉积设备-沈阳鹏程公司-气相化学沉积设备价格
- 名称沈阳鹏程真空技术有限责任公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 董顺
-
价格
面议
点此议价
- 采购量 不限制
- 发布日期 2020-07-10 11:12 至 长期有效
气相化学沉积设备-沈阳鹏程公司-气相化学沉积设备价格产品详情
等离子体增强化学气相沉积的主要过程
沈阳鹏程真空技术有限责任公司*生产、销售化学气相沉积,气相化学沉积设备,我们为您分析该产品的以下信息。
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD技术是通过应气体放电来制备薄膜的,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。一般说来,采用PECVD技术制备薄膜材料时,薄膜的生长主要包含以下三个基本过程:
首先,在非平衡等离子体中,气相化学沉积设备报价,电子与反应气体发生初级反应,使得反应气体发生分解,形成离子和活性基团的混合物;
其二,气相化学沉积设备公司,各种活性基团向薄膜生长表面和管壁扩散输运,同时发生各反应物之间的次级反应;
然后,到达生长表面的各种初级反应和次级反应产物被吸附并与表面发生反应,同时伴随有气相分子物的再放出。
等离子体化学气相沉积的化学反应
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助。
等离子体内的化学反应
由于辉光放电过程中对反应气体的激励主要是电子碰撞,因此等离子体内的基元反应多种多样的,而且等离子体与固体表面的相互作用也非常复杂,这些都给PECVD技术制膜过程的机理研究增加*度。迄今为止,许多重要的反应体系都是通过实验使工艺参数较优化,从而获得具有理想特性的薄膜。对基于PECVD技术的硅基薄膜的沉积而言,如果能够深刻揭示其沉积机理,便可以在保证材料优良物性的前提下,大幅度提高硅基薄膜材料的沉积速率。
化学气相沉积法在金属材料方面的使用
沈阳鹏程真空技术有限责任公司*生产、销售化学气相沉积,以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
化学气相沉积法生产金属铱高温涂层从20世纪80年代起,NASA 开始尝试使用金属有机化合*学气相沉积法制取出使用铼基铱作为涂层的复合喷管,并获得了成功,气相化学沉积设备价格,这时化学气相沉积法在生产金属涂层领域才有了一定程度上的突破。
NASA 使用了C15H21IrO6作为制取铱涂层的材料,并利用 C15H21IrO6的热分解反应进行沉积。铱的沉积速度很快,可以达到3~20μm/h。 沉积厚度也达到了50μm,C15H21IrO6的制取效率达 70%以上。
气相化学沉积设备-沈阳鹏程公司-气相化学沉积设备价格由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司(www.pengchengzk*)是一家从事“电阻热蒸发镀膜,磁控溅射,激光脉冲沉积,电子束”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,稳健经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“鹏程真空”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务为先,用户至上”的原则,使沈阳鹏程在成型设备中赢得了众的客户的信任,树立了良好的企业形象。 特别说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!
该公司其他产品
江湖通产品
- 拉萨医院集中供氧自动切换汇流排 江苏沪信* 面议
- 江苏气体汇流排 集中供气汇流排 全自动切换汇流排生产厂家 ¥5800.0元/件
- 煤炭化验设备用的网底桶 浮沉桶 ¥60.0元/件