赛米莱德-NR71 3000PY光刻胶

光刻胶分类

根据化学反应机理和显影原理的不同，光刻胶可以分为负性胶和正性胶。对某些溶剂可溶，但经*后形成不可溶物质的是负性胶;反之，NR71 3000PY光刻胶，对某些溶剂不可溶，经*后变成可溶的为正性胶。

从需求端来看，光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中，半导体光刻胶的技术壁垒较高。

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光刻胶的应用

以下内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。

模拟半导体（Analog Semiconductors）发光二*管（Light-Emitting Diodes LEDs）微机电系统（Microelectromechanical System*EMS）太阳能光伏（Solar Photovoltaics PV）微流道和生物芯片（Microfluidics amp; Biochips）光电子器件/光子器件（Optoelectronics/Photonics）封装（Packaging）

光刻胶定义

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，NR71 3000PY光刻胶哪里有，是转移紫外*或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为*蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)，光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板显示器(LED，LCD，OLED)，太阳能光伏(Solar PV)等领域。

期望大家在选购光刻胶时多一份细心，NR71 3000PY光刻胶报价，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多光刻胶的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！