水性光刻胶-赛米莱德-水性光刻胶厂家
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- 名称 北京赛米莱德贸易有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 况经理
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价格
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- 采购量 不限制
- 发布日期 2020-06-26 01:39 至 长期有效
水性光刻胶-赛米莱德-水性光刻胶厂家产品详情
光刻胶的概述
光刻胶也称为光致*蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。
光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过*后,受到光照的部分变得容易溶解,经过显影后被溶解,只留下未受光照的部分形成图形;而负胶却恰恰相反,水性光刻胶厂家,经过*后,受到光照的部分会变得不易溶解,经过显影后,水性光刻胶,留下光照部分形成图形。
负胶在光刻工艺上应用早,其工艺成本低、产量高,但由于它吸收显影液后会膨胀,导致其分辨率(即光刻工艺中所能形成图形)不如正胶,因此对于亚微米甚至更小尺寸的加工技术,主要使用正胶作为光刻胶。
光刻胶的作用有什么?
光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上,为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中,需在硅片上涂一层光刻胶,经紫外线*后,光刻胶的化学性质发生变化,在通过显影后,被*的光刻胶将被去除,从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经过刻蚀过程,实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。在刻蚀过程中,光刻胶起防腐蚀的保护作用。
光刻胶是什么材料
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。
1、光刻胶的技术复杂,品种较多。根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶。反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
2、普通的光刻胶在成像过程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻胶图形的对比度,从而降低了图形的分辨率。随着*加工特征尺寸的缩小,水性光刻胶供应商,入射光的反射和散射对提高图形分辨率的影响也越来越大。为了提高*系统分辨率的性能,人们正在研究在*光刻胶的表面覆盖*反射涂层的新型光刻胶技术。该技术的引入,可明显减小光刻胶表面对入射光的反射和散射,从而改善光刻胶的分辨率性能,但由此将引起工艺复杂性和光刻成本的增加。
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