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计中牵扯到 2 个主要参数(LAB、 K),需同时满足目标值,所以将 LAB 进行优化设定,

而 K 值通过 sweep 生成多个拓扑结构进行选取。

(1) 先将‘turns’设置为 3,直接,看看默认这些物理参数条件下 LAB 大概是

多少,结果尽量在目标值 1.5nH 左右, 方便后续优化 sweep 迭代。

(2) 对 LAB 进行优化,选‘Outer Radius’进行调整,目标值 1.5n, 频率点就默认的

即可。(反正看的是全频段结果,在高频时应该感值会增加)

(3) Sweep 设置, 为了得到较多的物理拓扑结构, 选择 2 个物理尺寸进行扫描(线

宽 w 和线间距 S),将‘Width’和‘Spacing’设置为变量 w、 s 后,点击‘OK’,

会弹出变量设置对话框。设置 s、w 的起止尺寸和点数(注意不要违反 DRC rule)。

本例中 w 设置 6 个点, s 设置 5 个点,这样会有 30 个拓扑结构, 那么 K 值选择

范围会大些。

(4) 类型自行选择,本例为了快速,选择的低精度‘interconnect’。也仅生

成 nport 模型,没有勾选集总 PBM 模型。












1) 屏蔽层电流分布检查:对于接地屏蔽层(PGS),为保证良好的电感值及品质因数,设计者需避免电流回路,毫米波芯片电磁场软件提供了可视化的电流分布检查功能;

2) *P-processing(边界条件后处理):可以通过变换边界条件来查看后处理结果,例如感值,Q值等。用户可根据不同的端口配置以及新的Nport数据,生成相对应的EM可视化数据;

3) 结果在用户界面生成曲线图,用户可以查看系统自带公式的Q值,感值,阻值等,也可以自己编辑公式查看自定义公式的曲线图;










1) 可生成可视化视图,从而看到电流电压分布的三维可视化分布,视图可立体旋转,可以选择显示和隐藏不同金属层;

2) 网格密度检查:

三维显示网格密度的三维视图,可以帮助用户检查网格密度,不同的网格密度对应不同的类型设置;

3)





连通性检查:通过可视化的显示,设计者可方便的检查器件的电压分布,通过电压分布可以快速找到电路中的短路与开路部分,并进行修正;


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