机械面板腐蚀工厂-珠海腐蚀面板加工-广州茂美加工厂

广州市茂美标牌加工厂，座落于番禺区桥南街陈涌工业区，珠海腐蚀面板加工，专注于腐蚀面板加工，腐蚀面板定制，机械控制面板定做，不锈钢蚀刻面板加工，机械面板腐蚀定制，设备蚀刻面板加工，腐蚀机械面板定制，机箱设备面板定制、电子秤按键面板定做等，接单领域主要集中在广州、深圳 、佛山 、东莞、中山、珠海、江门、肇庆、惠州等地，均可加工定制生产。产品还有腐蚀标牌，不锈钢直尺加工、铝铭牌制作、不锈钢铭牌制作、机械设备控制面板、亚克力标牌等。制作工艺：UV印刷、喷漆、丝印、热转印、凹凸，冲压、磨光、拉丝、电镀、氧化、喷砂、激光、注塑、磨光、电铸、腐蚀等一体化的大型*标牌加工制作厂。

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浸泡式（Dip，也有称为“多片直立浸泡式”）设备构造相对简单、单套建造成本较低。能满足相对较多片产品的同时减薄。设备装置体积相较大，外围容易产生沉淀物和白色粉末。蚀刻液的鼓泡均匀情况不易控制。注：浸泡式蚀刻减薄设备构造等相关介绍，可参见《浅析LCD玻璃基板浸泡式蚀刻减薄系统的设备主要构造和改进》

喷淋式（Spray，腐蚀面板加工哪家好，也有称为“侧喷式”）

可以处理两面不同蚀刻要求。蚀刻液可有效回收利用，相对成本较低。蚀刻产品表面易产生凹点（dimple），需要后续拋光处理。产品若未完全直立，由于压力控制等原因，容易发生*片和蚀刻不均匀的现象。

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Dry etching（干蚀刻）将特定气体置于低压状态下施以电压，将其激发成各种不同的带电荷离子、原子团、分子以及电子（这种物质状态称为Pla*a）并利用这些解离后带能量的反应性的离子及原子团，对特定层膜加以化学性的蚀刻及离子轰击，达到膜层去除的一种蚀刻方式。

Dry etching中起作用的主要是radical和ion。Radical是电中性，因为化学性质很活泼，所以和膜表面分子发生反应，可达到膜层去除的作用。反应生成物作为gas被排气。

带正电的ion被selfbias的负电位吸引几乎垂直撞向基板，轰击膜层表面的分子键合，促进radical的化学反应，并使表面产生的反应物脱落。

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蚀刻是制造薄膜晶体管液晶显示装置(ThinFirm Transistor Liquid Crystal Display，TFT_LCD)阵列基板过程中的一个重要制程。蚀刻工艺根据蚀刻剂的物理状态分为干蚀刻工艺和湿蚀刻工艺，干蚀刻工艺利用蚀刻气体进行蚀刻，湿蚀刻工艺利用蚀刻液体进行蚀刻。

现有的干蚀刻装置通常包括:真空腔(未图示)、设于所述真空腔内的上电*板(未图示)、与上电*板相对间隔设置的下电*板1、位于所述下电*板I下方用于承载下电*板I的绝缘板2、设于所述下电*板I上的静电吸附平台3、位于上、下电*板I之间的等离子体(Pla*a)真空放电区(未图示)、及与上、下电*板相连的电源(未图示)，利用等离子体真空放电区内的高压电场互相作用所产生的等离子体来对设于静电吸附平台3上的晶元或玻璃基板4进行蚀刻。

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干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点:一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的。现有技术中，高速率干法刻蚀所用等离子激发手段主要为ICCP(Impressed Current CathodicProtect 1n，外加电流阴*保护)，若要想进一步提高刻蚀速率，一般来说可以通过提高等离子体激励源频率来获得更高的等离子体截止密度，达到提高刻蚀速率的目的。但提高激励源频率会导致电*表面驻波等问题，导致刻蚀速率不均匀，无法大面积均匀刻蚀。

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工艺特点

(1) 采用自配油墨，具有*蚀性好、粘合力强、可自然干燥、转印性能好等优点；

(2) 采用自制球型腐蚀喷头，腐蚀液能喷射成均匀半球面，适合复杂型腔腐蚀，加上型腔朝下，不会堆滞腐蚀液，能获得腐蚀深度均匀、无※角、图纹清晰、高质量的装饰纹；

(3) 工艺方法简单，操作容易，适合大、中、小模具，不受几何形状限制；

(4) 设备简单，材料消耗甚少，主要消耗贴花纸、转印油墨、保护漆，成本低廉，经济效益高。

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