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鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉

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鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉

鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉
  • 鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉缩略图1
  • 鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉缩略图2
  • 鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉缩略图3
  • 鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉缩略图4
热线:18681979759
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鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉产品详情

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  • 额定温度:1000°C
  • 额定功率:20Kw
  • 日处理量:50kg-200KG
  • 保质期:一年
  • 售后服务:终身
  • 品牌:鸿峰牌
  • 型号:HF-RL15.200
  • 类型:外热式回转炉
  • 外形尺寸:5000mm*1000mm*2200mm
  • 重量:2000Kg

咸阳鸿峰窑炉设备有限公司*新研制的HF-RL15.200型 硅负*VCD炉 ,用于氧化亚硅,纳米硅,硅氧碳等负*材料的气相沉积,碳包覆,混料烧结的工艺

咸阳鸿峰窑炉设备有限公司成立于2011年,坐落于大秦故都咸阳。是一家针对**碳材料,锂离子电池正负*材料,稀土功能材料,*端金属结构材料等新兴材料*回转炉研发,制造,服务的高科技公司。

咸阳是国内*早进行新型窑炉结构研发的产业聚集地,本地大型*工企业培养出了成熟的技术工人和机械设计师,有着优良的机械设计加工基础。

硅碳负*制备的关键点在设备,设备的稳定性和可靠性制约目前材料批量化生产的难题,咸阳鸿峰牌系列硅碳负*材料CVD炉产品,经过市场检验,可连续稳定制备*负*材料,在碳包覆,气相沉积,真空烧结工序可满足工艺的苛刻要求,欢迎新老用户莅临参观考察

鸿峰化学气相沉积炉的主要特点:

1.炉体结构设计采用环形加热,实现快速均匀升温;

2.多路进气口结构设置,加快沉积速度,特殊扬料板设计,沉积更均匀,效果更好;

3.日本进口温控仪表,64控温程序,分段式加热控制;

4.多温区设计,温度波动更小,温控精*,温场更稳定;

5.品牌质量流量计+转子流量计,*确控制气体体积及流速;

5.加热区稳定温度可达950

6.工作电压:AC380v50/60Hz;功率;15-32KW

7.炉体采用进口耐腐蚀不锈钢,高温下化学稳定性强,耐高温,热膨胀系数*小;

咸阳鸿峰窑炉设备有限公司成立于2011年,坐落于大秦故都咸阳。是一家专*针对**碳材料,锂离子电池正负*材料,稀土功能材料,*端金属结构材料等新兴材料*回转炉研发,制造,服务的高科技公司。

咸阳是国内*早进行新型窑炉结构研发的产业聚集地,本地大型*工企业培养出了成熟的技术工人和机械设计师,有着优良的机械设计加工基础。

硅碳负*制备的关键点在设备,设备的稳定性和可靠性制约目前材料批量化生产的难题,咸阳鸿峰牌系列硅碳负*材料CVD炉产品,经过市场检验,可连续稳定制备*负*材料,在碳包覆,气相沉积,真空烧结工序可满足工艺的苛刻要求,欢迎新老用户莅临参观考察

鸿峰化学气相沉积炉的主要特点:

1.炉体结构设计采用环形加热,实现快速均匀升温;

2.多路进气口结构设置,加快沉积速度,特殊扬料板设计,沉积更均匀,效果更好;

3.日本进口温控仪表,64控温程序,分段式加热控制;

4.多温区设计,温度波动更小,温控精却,温场更稳定;

5.品牌质量流量计+转子流量计,*确控制气体体积及流速;

5.加热区稳定温度可达950

6.工作电压:AC380v50/60Hz;功率;15-32KW

7.炉体采用进口耐腐蚀不锈钢,高温下化学稳定性强,耐高温,热膨胀系数*小;

 

鸿峰化学气相沉积炉的主要特点:

1.炉体结构设计采用环形加热,实现快速均匀升温;

2.多路进气口结构设置,加快沉积速度,特殊扬料板设计,沉积更均匀,效果更好;

3.日本进口温控仪表,64控温程序,分段式加热控制;

4.多温区设计,温度波动更小,温控*确,温场更稳定;

5.品牌质量流量计+转子流量计,*确控制气体体积及流速;

5.加热区稳定温度可达950

6.工作电压:AC380v50/60Hz;功率;15-32KW

7.炉体采用进口耐腐蚀不锈钢,高温下化学稳定性强,耐高温,热膨胀系数*小;

 

 

以上内容为鸿峰HF-RL系列硅负及CVD炉,本产品由咸阳鸿峰窑炉设备有限公司直销供应。
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