黄山净化工程-南京鲁鑫净化工程-实验室净化工程

单向流洁净室主要用于电子工业和生物制药生产的局部区域。在生物医用产品生产中主要采用局部设置层流罩或净化工作台或生物安全柜等来满足产品生产工艺的要求。在电子工业中的微电子产品或一些电子器件产品生产中需要一个房间或一条生产线，甚至数条生产线的主要工序均需设置在严于5级的洁净室内，才能达到产品生产的要求。为此，单向流洁净室的空间布置己从 “单层”布置发展到“多层”布置。“单层”布置的单向流洁净厂房，在单向流洁净生产区的上部、下部设有上下技术夹层，在上技术夹层内布置送风管道、部分公用动力管线，通过设在顶棚上的*过滤器向洁净生产区均匀送风；通过设在下技术夹层的回风地板回风至空气处理装置。“多层”布置的单向流洁净厂房的主要特点是将洁净生产区与供应产品生产工艺所需的各类公用动力管线、产品生产工艺管线及工艺辅助设施等都布置在下技术夹层（底层）内，车间净化工程，同洁净生产区分层布置。

国外洁净室的强度要求*高，例如美国关于洁净室的几个标准的要求是．人工光300lx有较好的效果，当工件精细程度更高时，500x也是允许的。对于要红灯照明的地方，如电子行业的光刻车间，黄山净化工程，其照度一般为(25—501x)，用天然光时可允许更高的照度，因而对工作是有利的，所以今后洁净室的照明既采用人工光也采用天然光可能是有前途的，这也是为了节能而出现的一种动向。

防静电洁净室中由于静电引起的的事故屡有发生，因此洁净室的防静电能力如何已成为评价其质量的一个不可忽视的方面。所谓静电，是由于摩擦等原因*了物体中正( )负lt;一）电荷等量的均匀的电中性状态，而使电荷过剩，净化工程安装，物体呈带电状态，由于这些电荷平时是不流动的，故称静电。

洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的*度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻*工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产合适湿度范围为35—45%。



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