制版公司-制版-光刻板(查看)

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，制版价格，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

什么是光刻掩模板

　在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致*蚀剂涂层选择性*的一种结构，称为光刻掩模版。

　　半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电*接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。

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光掩膜一般也称光罩，制版，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，制版报价，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过*将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成：基板和不透光材料。

作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具，光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。

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光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过*过程将图形信息转移到产品基片上。