搪玻璃设备公司-重庆搪玻璃设备-卓源搪玻璃反应釜

为什么非要对搪玻璃设备进行清洗呢？

我们在进行生产的时候，尤其是在化工设备行业中，很多的反应都涉及到很多的化学原料甚至是催化剂，并且对这些原料和催化剂的要求都非常的严格，一旦您在使用完反应釜之后不进行清洗，接着进行下一个反应，这两个反应所需要的原料又不相同，搪玻璃设备配件，就会导致反应的失败。

“那么我们在进行同一种反应之后，是不是就可以不用进行清洗直接进行使用呢？”肯定会有人这么问。其实这也是不行的，我们都知道空气中*浮着大量的粉尘等物体，搪玻璃设备公司，这些很有可能就会对我们的原料造成污染。另外，很多化学产物会与空气中的一些成分发生反应，例如：水蒸气，二氧化碳等。

并且很多设备及附件的精度要求很高或对杂质的*作用十分敏感，因此任何机械杂质的介入都****有可能*精密部件的质量而影响正常生产。所以我们必须要对在使用完搪玻璃反应釜之后就要立马进行清洗，而且还有注意清洗的质量。

搪玻璃设备在长期使用过程中会积累大量的污垢，这些污垢会影响搪玻璃反应釜的正常工作，增加能源消耗，降低产品质量。因此搪玻璃设备除了严格的日常维护和检查，还要定期对它进行清洗，清洗方法主要有机械清洗和化学清洗两种。

首先说下机械清洗：是搪玻璃设备清洗中****通用的方法，其中****常用的是高压水枪清洗釜内，对于一般污垢效果明显，重庆搪玻璃设备，操作简单方便，清洗成本低，并且危害小，且对釜内损耗一般较小，但适用范围窄。大部分成产和试验中反应釜中污垢由于其特性，搪玻璃设备厂家，用高压水枪清洗难以达到效果，特殊情况下，如聚合反应固体结块，需要配合其他清洗方式进行清洗，如敲打*碎，切割等。但是对于粘稠或吸附性较强的液体类污垢，采用擦洗方法进行清除即可，该方法特别适用于搪玻璃反应釜。

其次就是化学清洗：是搪玻璃设备清洗中较常用的方法，应用范围广，效果明显，但是成本太高，同时清理过程中产生的大量化学废液处理困难，并且环境污染大。不太符合环保的理念，在化学清洗中首先需要确定污垢成分，然后选择对应的清洗溶剂，与此同时也需要对清洗安全性和釜具腐蚀强度进行评估。化学清洗对大部分污垢都能找到相应的清洗对策，清洗效果也较好。

搪玻璃容器的搪玻璃设备厚度一般为0.8-2.0mm，采用电磁性仪器无损测量磁性基体上的搪玻璃层厚度。其原理是用电磁法测量通过搪玻璃层与金属基体磁路磁阻的变化而得到搪玻璃层的厚度。测量精度对薄的搪玻璃层是一个常数值，与厚度无关。对厚的搪玻璃层，其精度随搪玻璃设备厚度的增加有所降低。

磁性测厚仪受金属集体磁性变化的影响，低碳钢的磁性变化是轻微的，为了避免热处理和冷加工因素的影响，采用未搪玻璃前的试件进行校正。同时，仪器制造厂会提供磁性膜厚仪的临界厚度值，超过这个厚度，测定值不会受到金属基体厚度增加的影响。

搪玻璃设备的表面粗糙度、曲率半径、边缘效应对测量值都有影响。如果在搪玻璃设备粗糙表面上同一参考面积内所得的数值超过仪器固有的重现性，则测量次数应增加到5次。搪玻璃设备的曲率半径越小，影响越明显。太靠近搪玻璃设备边缘或拐角处的测量数值是不可靠的，应距边角大于15mm处进行测量。同时，搪玻璃层表面必须干净，不能有附着物。为保证测量值的准确性，可根据具体条件对测厚仪进行校正。