高纯钨-中诺新材-钛钨合金靶材 高纯钨靶

金、银、铂、钯溅射靶材通过熔炼提纯、浇铸成锭，锻造轧制和精密机加工制造而成。纯度均可达到99.99%，主要应用于电子半导体、太阳能光伏、平面显示、磁学等行业。

钌、铑、铱溅射靶材采用高纯金属粉末为原料，通过粉末冶金铸锭，并精密机加工成靶，产品纯度可达99.95%。主要应用于电子半导体、磁学等行业。

常规靶材有：

高纯金 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm，钛钨合金靶材 高纯钨靶， φ101.6mm

高纯银 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯铂 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯钯 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯钌 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯铑 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯铱 靶材 99.95%φ50.8mm，高纯钨靶 钨片 钨丝 钨粉， φ60mm， φ101.6mm

常规厚度1-6mm

可定制加工的圆靶方靶，可提供靶材绑定服务。

中诺新材采用高纯化合物粉末为原料，通过常压烧结法、真空热压法以及热等静压法等工艺成型，经过精密的机械加工工艺，制得晶粒细小、*均匀、致密度高的*陶瓷化合物靶材，被广泛应用于太阳能光伏、平面显示、玻璃镀膜等领域。

中诺新材可根据您的需求，为您定制不同化合物，不同比例的掺杂靶材。通过球磨制粉，共沉积制粉，真空热压烧结，常压烧结等工艺，可保证靶材掺杂比例准确，掺杂相单一，高纯钨，致密度高。

中诺新材研发介绍：

1. 研发种类：各种比例的金属合金、各种比例的陶瓷化合物掺杂、二元混合，三元混合，四元混合等多元混合材料。

2. 研发材料规格：靶材（圆靶 平面靶 旋转靶 异形靶）、颗粒、圆柱、丝、棒、粉末、锭块，可根据客户要求。

3，研发设备：

1. 真空中、高频熔炼炉

2. 真空悬浮熔炼炉

3. 真空电弧熔炼炉

4. 真空热压炉

5. 真空烧结炉

6. 气氛烧结炉

7. 区熔提纯设备

8. 真空蒸馏设备

9. 进口*机械加工设备