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在半导体晶片制造过程中,一个重要的工序环节就是金属薄膜沉积,沈阳真空设备生产厂家,该工艺是作为电路引线用。沉积金属薄膜****常用的方法是蒸发和溅射。然而随着集成电路向线结和图形微细化的方向发展,加上对接触和互连的要求也越来越严,特别是铝硅互溶引起的结穿通和电迁移现象变得更加严重,接触和互连材料就有必要采用铝的合金以及各种难溶金属。







真空泵油的选择要求

1、真空泵油的密封性

真空泵油需求具有适合的粘度,在低温下能使真空泵疾速启动,在高温下真空泵油能具有良好的密封性,在泵内真空泵油具有较低的温升。不含有轻质的易挥发组分,沈阳真空设备,降低运用过程中真空泵的返油率。


2、真空泵油的饱和蒸汽压

饱和蒸汽压是真空泵油较关键的指标之一。在恒温的密闭容器中,当汽液两相到达动态均衡时的压力称谓饱和蒸汽压。


真空镀膜设备的维修及*方法:

真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上,沈阳真空设备生产商,应清洁工作室一次。


方法:用(NaOH)饱和溶液反复擦洗真空室内壁,( 注意*皮肤不可以直接接触溶液,以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应,反应后膜层脱落,并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。


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