沈阳真空设备采购-沈阳真空设备-天成【自主*】

根据权利要求1所述的管内镀膜设备及镀膜技术，其特征在于：所述的磁体为长跑道形结构，磁体长度与被镀管长度相当，除两端外，产生基本与轴向垂直的磁场，沈阳真空设备厂，镀膜过程中，沈阳真空设备厂家，磁体整体绕被镀管旋转，旋转轴与被镀管中心轴线相同。如果被镀管为绝缘管，则被镀管内与轴向平行设置细杆状或细管状金属阳****1根或多根。

根据权利要求的管内镀膜设备及镀膜技术，其特征在于：所述的细管状金属阳****可同时作为充气管道，沈阳真空设备采购，不再另外设置充气管道;在细管状阳****侧壁上开进气孔。

真空镀膜设备的正常工作条件:

1.环境温度：10~30℃

2.相对湿度：不大于70%

3.冷却水进水温度：不高于25℃

4.冷却水质：城市自来水或质量相当的水

5.供电电压：380V，三相50Hz或220V，单相50Hz（由所用电器需要而定），电压波动范围342~399V或198V~231V，频率波动范围49~51Hz.

蒸发镀膜过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，沈阳真空设备，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。