宿迁光罩

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

通过金属化过程，在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在*（一般是紫外线）后可以被特定溶液（显影液）溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上，可以对光刻胶进行选择性照射（*）。然后使用前面提到的显影液，溶解掉被照射的区域，这样，光罩，光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施，****剩余部分光刻胶的一些性质。上述步骤完成后，就可以对衬底进行选择性的刻蚀或离子注入过程，未被溶解的光刻胶将保护衬底在这些过程中不被改变。

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光刻胶又称光致*蚀剂， 将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中，并在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。光刻胶由感光树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成， 其中，感光树脂是光刻胶作用的关键组分。

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实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模（Reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模（Mask）：当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。