磁控溅射镀膜出售-北京泰科诺(在线咨询)-磁控溅射镀膜
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- 名称北京泰科诺科技有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 朱经理
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价格
面议
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- 采购量 不限制
- 发布日期 2019-02-14 01:28 至 长期有效
磁控溅射镀膜出售-北京泰科诺(在线咨询)-磁控溅射镀膜产品详情
真空磁控溅射镀膜
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,磁控溅射镀膜,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
磁控溅射镀膜
真空磁控溅射镀膜
所谓溅射就是用荷能粒子(通常用惰性气体的正离子)去轰击固体(以下称靶材)表面,从而引起靶材表面上的原子(或分子)从其中逸出的一种现象。这一现象是格洛夫(Grove)于1842年在实验研究阴****腐蚀问题时,阴****材料被迁移到真空管壁上而发现的。
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磁控溅射镀膜设备
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直流溅射法
直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴****,从而该方法只能溅射导体材料,不适于绝缘材料,因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和,这将导致靶面电位升高,外加电压几乎都加在靶上,两****间的离子加速与电离的机会将变小,甚至不能电离,导致不能连续放电甚至放电停止,溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材,磁控溅射镀膜价格,须用射频溅射法(RF)。溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程:首先,入射粒子与靶材原子发生弹性碰撞,入射粒子的一部分动能会传给靶材原子,某些靶材原子的动能超过由其周围存在的其它原子所形成的势垒(对于金属是5-10eV),从而从晶格点阵中被碰撞出来,产生离位原子,并进一步和附近的原子依次反复碰撞,产生碰撞级联。当这种碰撞级联到达靶材表面时,如果靠近靶材表面的原子的动能大于表面结合能(对于金属是1-6eV),这些原子就会从靶材表面脱离从而进入真空。
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磁控溅射设备
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磁控溅射
磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。目前没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道,而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶,即靶材与磁体之间无相对运动且靶材直接与冷却水接触的靶,?靶材利用率数据多在20%~30%左右(间冷靶相对要高一些,但其被刻蚀过程与直冷靶相同,不作专门讨论),且多为估计值。为了****靶材利用率,研究出来了不同形式的动态靶,其中以旋转磁场圆柱靶工业上被广泛应用,据称这种靶材的利用率可超过70%,但缺少足够数据或理论证明。常见的磁控溅射靶材从几何形状上看有三种类型:矩形平面、圆形平面和圆柱管? 如何****利用率是真空磁控溅射镀膜行业的*,圆柱管靶利用高,但在有些产业是不适用的,如何****靶材利用,请到此一看的朋友,在下面留下你的见解,提供好的方法
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