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电子工业生产中所需的高纯气体

随着现代分析仪器的发展，****气体多少钱，国外对高纯气体的分析经历了离线分析(off-line)、在线分析(on-line)和原位分析(in-situ)三个阶段。我国在高纯气体分析方面，也已进入在线分析阶段，且分析检测的灵敏度高，可以实现气体中痕量金属杂质的分析测试 。然而，由于一些气态样品不能直接导入分析仪器进行金属成分的测量，一般需要把气体样品****行液体化，即将含有金属杂质的气体样品捕集到溶液中，以该溶液为样品，才能选定合适的检测手段进行分析。由于高纯气体中的金属杂质含量低至ppb至ppt级，因此，对测定时使用的取样方法(****样品污染)、检测方法以及分析测试仪器(灵敏度和检测限等)均提出了更高的操作要求。本文综述了电子气体中金属杂质的一些捕集方法以及几种不同的检测方法。

我国****气体生产技术与国外的差距

论述了工业用标准气，环保气，淄博****气体，大规模集成电路、光导纤维、非晶硅太阳电池制造用电子气，****气体厂家报价，MOCVD的源材料—金属有机化合物，以及电子气配套器件国*研、生产和制造的技术水平及其与国外的差距，指出配套器件技术水平与国外的差距比****气体技术水平与国外的差距还要大，仅约相当于国外70年代中末期水平，而标准气约相当于国外80年代初中期水平，电子气则相当于国外80年代初期水平。特气生产技术关键是气体纯化技术及高纯或瞄蚀性气体包装技术等。为加速电子气国产化进程，生产****气体厂家，提出了6项政策性措施。

深度提纯难度大，而纯度是电子气体质量****重要的指标。在芯片加工过程中，微小的气体纯净度差异将导致整个产品性能的降低甚至报废。电子气体纯度往往要求5N-6N级别，还要将金属元素净化到10-9级至10-12级。气体纯度每****一个层次对纯化技术就提出了更高的要求，技术难度也将显著上升。以硅1烷为例，将其纯度由4N提纯到6N中间有漫长的道路。对于混合气体而言，混合配比的精度也是下游生产厂商关心的指标。气体纯化技术主要有吸附法、精馏法、膜分离法等。