多功能纳米镀膜机-北京泰科诺(推荐商家)

真空电镀设备膜厚的不均匀问题

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

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真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，多功能纳米镀膜机公司，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，多功能纳米镀膜机，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响小化。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供*的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所****，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。

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磁控溅射镀膜机

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铟锡氧化物( Indium Tin Oxide ，简称ITO) 薄膜是一种用途广泛的透明导电材料，已成熟的应用于电机车挡风玻璃、液晶显示器件、太阳能电池、全息照相和液晶彩色电视等，蓄势待发的应用领域为有机发光二****管显示器(Organic Light-Emitting Diode ，简称OLED) 。从应用角度出发，多功能纳米镀膜机生产，通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ，薄膜中铟锡低价化合物愈少愈好。ITO 薄膜的制备方法很多，如喷涂、蒸发、射频溅射和磁控溅射等。随着液晶显示器技术向高精细化和大型化发展，磁控溅射法备受欢迎。

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设备主要优势

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设备主要优势

2.1 实用性：设备集成度高，结构紧凑，占地面积小，可以满足客户实验室空间不足的苛刻条件；通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换，实现一机多用；

2.2 方便性：设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁；

2.3 高性价比：设备主要零部件采用进口或国内*品牌，以国产设备的价格拥有进口设备的配置，从而保证了设备的质量及性能；

2.4 安全性：*开发的PLC 触摸屏智能操作系统在传统操作系统的基础上新具备了漏气自检与提示、通讯故障自检、*维护提示等功能，保证了设备的使用安全性能；

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