电子束蒸发镀膜系统-北京泰科诺-电子束蒸发镀膜系统厂家*

电子束蒸发与磁控溅射镀膜的分析

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

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附着力

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久*的重要因素。溅射原子能量比蒸发原子能量高1—2个数量级。高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗清除了附着力不强的溅射原子，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。

测定附着力所采用的方法是测量Al膜从基片上剥离时所需要的力或者能量，我们采用剥离水法来测定附着力。

设薄膜单位面积的附着能为γ，则宽度为b，长度为a的薄膜的总附着能E=abγ(1)

用于剥离该薄膜的力F所作的功

Wp=Fa(1-sin(θ))(2)

如果是静态剥离并忽略薄膜弯曲时所产生的弹性能，则F所作的功近似等于薄膜的总附着能，即Wp=E，于是F=bγ/(1-sin(θ))(3)

(3)式中F随着θ角的变化而变化，不能*反映薄膜的附着性能。当所加剥离力与薄膜垂直，即θ=0°时，则式简化为

F=bγ(4)

根据测量所得的F便可计算出附着能γ=F/b。如果要直接计算单位长度的附着力f，根据定义并采用上述方法(θ=0°)进行剥离可得f=γ。可见，附着力的大小和附着能γ的数据相同，电子束蒸发镀膜系统多少钱一台，由于Al膜的附着能γ较高，所以其附着力较大。实验测得的数据是：溅射Al膜的平均附着力25N，电子束蒸发Al膜的平均附着力为9.8N。这些数据和理论分析结论一致。

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电子束蒸发镀膜 为什么要放在水冷的坩埚中

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世界重晶石储量约91000万吨，世界人均占有量为0.18吨/人。我国重晶石储量约14000万吨 ，我国人均占有量约为0.13吨/人，据有关预测，到2000年，我国对重晶石的年需求量约为 75万吨，年平均增长率为3.2%，我国重晶石资源的可开采年限约70年。这组数据无情的给 我们敲响了警钟!我国重晶石在21世纪中、下期有可能出现资源紧缺现象。而到21世纪的中 、 下期，我国正发展到一个中等发达*的水平。石油是主要的能源，并且这些工业 都是我国今后要大力发展的，需要大量的重晶石。为此，对代用困难，电子束蒸发镀膜系统厂家*，资源不太丰富的重晶 石，建议我国应限制出口，电子束蒸发镀膜系统供应商，保护重晶石资源。

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请教关于磁控溅射镀膜和电子束镀膜的区别

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这两个虽然都属于PVD，实际区别太大了，几乎没法比较，均匀性溅镀好，致密性溅镀好，沉积速率貌似是蒸镀高，具体建议楼主找相关书籍阅读。

一般蒸镀慢，附着力和致密性较溅镀差，颗粒尺寸较小，均匀性就看设备怎样了

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