电子束镀膜仪-北京泰科诺-电子束镀膜仪生产厂

电子束蒸发与磁控溅射镀膜的分析

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束镀膜仪，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束镀膜仪

附着力

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久*的重要因素。溅射原子能量比蒸发原子能量高1—2个数量级。高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗清除了附着力不强的溅射原子，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。

测定附着力所采用的方法是测量Al膜从基片上剥离时所需要的力或者能量，我们采用剥离水法来测定附着力。

设薄膜单位面积的附着能为γ，则宽度为b，长度为a的薄膜的总附着能E=abγ(1)

用于剥离该薄膜的力F所作的功

Wp=Fa(1-sin(θ))(2)

如果是静态剥离并忽略薄膜弯曲时所产生的弹性能，则F所作的功近似等于薄膜的总附着能，即Wp=E，电子束镀膜仪厂商，于是F=bγ/(1-sin(θ))(3)

(3)式中F随着θ角的变化而变化，不能*反映薄膜的附着性能。当所加剥离力与薄膜垂直，即θ=0°时，则式简化为

F=bγ(4)

根据测量所得的F便可计算出附着能γ=F/b。如果要直接计算单位长度的附着力f，根据定义并采用上述方法(θ=0°)进行剥离可得f=γ。可见，电子束镀膜仪生产厂，附着力的大小和附着能γ的数据相同，由于Al膜的附着能γ较高，所以其附着力较大。实验测得的数据是：溅射Al膜的平均附着力25N，电子束蒸发Al膜的平均附着力为9.8N。这些数据和理论分析结论一致。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

比较电子束蒸镀优劣

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束镀膜仪

优劣比较电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀大的优势在于：可以为待蒸发的物质提供更高的热量，因此蒸镀的速率也更快；电子束*准确，可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷，对能量的利用率不高；而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离，也有可能带来污染。此外，大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解，这影响了薄膜的成分和结构。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

电子束蒸发镀膜机冷却水路不顺怎么办

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，电子束镀膜仪价格，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束镀膜仪

电子束蒸发镀膜机产生冷却水路不通畅或水压不够的情况，会导致冷却能力下降，致使扩散泵上半部分变热，油蒸汽不能良好液化。具体的解决办法将扩散泵进水管接以4mpa的气源，吹出水垢，接出水管同样保持4mpa。若水垢结的很多并且牢固，可通入稀盐酸或者更换扩散泵。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！