电子束蒸发沉积-北京泰科诺公司-电子束蒸发沉积多少钱

电子束蒸发镀膜的特点　　

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发沉积

电子束蒸发镀制TiO2薄膜，采用下图所示的离子束辅助电子束蒸发的INTEGRITY-39全自动光学镀膜系统。

1.冷却水进口;2.冷却水出口;3.坩埚;4.束流线圈;5.电子束发射;6.加热灯;7.基片架;8.电机;9.监控片;10.离子源

镀制样品电子枪工作电压为10 kV，电流为200 A，真空室沉积温度为145～155℃。膜料选用纯度为99.99%的黑色颗粒状Ti2O3，采用CC-105冷阴****离子束进行辅助沉积，沉积时真空室充入纯度为99.99%的O2作为反应气体，同时使用1179A型MKS质量流量计控制反应气体O2的流量，基底为直径25 mm的圆形K9玻璃。

　镀制时用机械泵和扩散泵将真空度抽至6.5×10-4Pa时，设定自动镀制程序。当基底被加热到沉积温度150℃时，离子源开始轰击基底，电子束蒸发沉积品牌，能量控制在60～90 eV，时间10 min。然后自动启动电子枪加热蒸发膜料，沉积薄膜，沉积速率0.38～0.42 nm/s，薄膜沉积到设计厚度440 nm时，程序自动关闭电子枪，完成镀制。

镀膜后真空室自然冷却到室温取出样品，用Lambda900(测试范围为175～3 300 nm)分光光度计进行样品TiO2的光谱测试，采用M*eod软件包络法计算TiO2薄膜的实际厚度，消光系数和折射率。

对真空室通入不同流量的高纯氧气，研究不同的真空度对TiO2的成膜质量、折射率、吸收系数的影响。

在较高的真空度下用离子源辅助蒸发沉积TiO2薄膜时，电子束蒸发沉积多少钱，真空度随通氧量的变化如下表所列。

随着充入真空室内的氧分子被电离成氧离子充分与Ti2O3蒸气分子反应，使得Ti2O3分解所失的氧得到补充，从而生成的薄膜中TiO2成分比较纯净，但是如果通氧量不足或Ti2O3与O2反应不充分，则会形成高吸收的亚氧化钛薄膜TinO2n-1(n=1，2，……，10)。随着通氧量的增加，TiO2蒸气分子在蒸发上升过程中与氧分子的碰撞几率*而损失了能量，使沉积在基底表面的TiO2动能减小，电子束蒸发沉积，影响沉积薄膜的附着力和致密性。

对于光学薄膜而言，电子束蒸发沉积批发，采用离子源辅助能够增加基底表面膜层分子的动能，不仅对薄膜的折射率有明显的影响，而且能使薄膜致密性及耐潮湿性得以****，同时薄膜在基底上的附着力也有明显好转

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电子束镀膜属于蒸镀还是溅射？

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电子束蒸发沉积

1.蒸发镀膜和溅射镀以及离子镀都是物理的气相沉积（PVD）的工艺方法。

2.蒸发镀主要包括：电阻加热蒸发、感应加热蒸发、电子束蒸发、激光加热蒸发、离子束蒸镀等。

3.您所说的E型枪镀膜和直型电子枪镀膜都是属于热蒸发镀膜的范畴。

4.S枪溅射实际就是锥形磁控溅射靶，阴****靶材为环状锥形，安装在水冷座上。环状磁钢套在靶材外边形成曲线磁场，其平行靶面的磁场分量和垂直于靶面的电场分量形成正交电磁场。电子束被约束在靶面附近运动，电子流密度很大，在靶面附近产生很强的非弹性碰撞，电离几率很大，形成很强的等离子体。

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电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发沉积

两种镀膜原理不同：

电子束蒸发镀膜：利用高能电子束轰击靶材，使材料表面产生很高的温度，由固态直接升华到气态，沉积到工件表面所形成的薄膜，主要运用在光学方面（如：眼镜片的增透膜，CCD镜头，光通讯方面等等）

磁控溅射镀膜：高能离子轰击靶材，使靶材表面原子飞逸出来的过程称溅射，那么采用磁场控制后，溅射出来的原子或二次电子以轮摆线的形式被束缚在靶材表面，使得辉光维持而进行溅射，主要运用在装饰方面（如：钟表，手机外壳等金属表面）

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