北京泰科诺、磁控溅射镀膜设备、磁控溅射镀膜设备厂家

北京泰科诺科技有限公司成立于2003年，多年来专注于真空镀膜设备及工艺的研发、制造、销售和服务。专为各大高校、科研院所和生产企业服务，产品主要包含热蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜机、多弧离子溅射镀膜机、热丝CVD设备、装饰镀膜机、DLC硬质涂层设备等等。目前有超1000台设备运转，磁控溅射镀膜设备厂家，产品遍布全国各地（含港澳台），远销至美国、澳大利亚、土耳其、马来西亚等国，深受用户好评。

磁控溅射镀膜设备 Magnetron Sputtering System

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，可实现单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等；

3. 选择多样化，可单独、与手套箱集成、带进样室使用；

4. 适用范围：制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等。

磁控溅射镀膜机

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控溅射镀膜设备

磁控溅射镀膜机

铟锡氧化物( Indium Tin Oxide ，简称ITO) 薄膜是一种用途广泛的透明导电材料，已成熟的应用于电机车挡风玻璃、液晶显示器件、太阳能电池、全息照相和液晶彩色电视等，蓄势待发的应用领域为有机发光二****管显示器(Organic Light-Emitting Diode ，磁控溅射镀膜设备，简称OLED) 。从应用角度出发，通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ，薄膜中铟锡低价化合物愈少愈好。ITO 薄膜的制备方法很多，如喷涂、蒸发、射频溅射和磁控溅射等。随着液晶显示器技术向高精细化和大型化发展，磁控溅射法备受欢迎。

想要了解更多，磁控溅射镀膜设备厂家，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

直流磁控溅射技术

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控溅射镀膜设备

直流磁控溅射技术

为了解决阴****溅射的缺陷，人们在20世纪开发出了直流磁控溅射技术，它有效地克服了阴****溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点，因而获得了迅速发展和广泛应用。其原理是：在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度*，从而磁控溅射速率得到很大的****，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向；另一方面也****了入射到衬底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上****薄膜的质量。同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳****时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。该方法的缺点是不能制备绝缘体膜，而且磁控电****中采用的不均匀磁场会使靶材产生显著的不均匀刻蚀，导致靶材利用率低，一般仅为20%-30%。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！