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高纯钨熔炼法。熔炼法是指将钨原料加热到其熔点以上形成液相,去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程,根据所采用的手段不同,具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。化学气相沉积法化学气相沉积是指以钨化合物气体(一般为WF6)为钨源,在一定温度下被H2还原,将生成的钨沉积在特定的基底上,沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯(或者制品)的过程 。


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钨和钨合金的塑性-脆性转变温度高。烧结和熔炼的多晶钨材的塑性-脆性转变温度约在150~450℃之间,造成加工和使用中的困难,而单晶钨则低于室温。钨材中的间隙杂质、微观结构和合金元素,以及塑性加工和表面状态,对钨材塑性-脆性转变温度都有很大影响。除铼可明显地降低钨材的塑性-脆性转变温度外,其他合金元素对降低塑性-脆性转变温度都收效甚微(见金属的强化)。


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高纯钨或超纯钨(5N或6N)由于具有高电子迁移*力、高温稳定性以及非常高的电子发射系数,广泛用作半导体大规模集成电路的门电路电****材料、布线材料和屏蔽金属材料。高纯金属钨靶是制造集成电路的基本材料之一,其市场前景与集成电路发展密切相关;若钨靶纯度不高,将造成大规模集成电路的作业可靠性降低,甚至产生泄电现象。采用高纯钨,可减少甚至消除*杂质的影响,****终端产品的性能 。


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热沉钨钼科技(东莞)有限公司
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