泰科诺公司,实验室真空蒸发镀膜设备

真空镀膜设备背压检漏法

真空镀膜设备背压检漏法当前位置：首页 gt;gt;新闻中心gt;gt;真空镀膜设备背压检漏法真空镀膜设备背压检漏法背压检漏法是一种充压检漏与真空检漏相结合的方法，真空镀膜设备中多用于封离后的电子器件、半导体器件等密封件的无损检漏技术中。

其检漏过程基本上可分为充压、净化和检漏三个步骤。

(1)充压过程是将被检件在充有高压示漏气体的容器内存放一定时间，如被检件有漏孔，示漏气体就可以通过漏孔进入被检件的内部，并且将随浸泡时间的增加和充气压力的增高，被检件内部示漏气体的分压力也必然会逐渐升高。

(2)净化过程是采用干燥氮气流或干燥空气流在充压容器外部或在其内部喷吹被检件。

如不具备气源时也可使被检件静置，实验室真空蒸发镀膜设备，以便去除吸附在被检件外表面上的示漏气体。

在净化过程中，因为有一部分气体必然会从被检件内部经漏孔流失，从而导致被检件内部示漏气体的分压力逐渐下降，而且净化时间越长，示漏气体的分压降就越大。

(3)检漏过程则是将净化后的被检件放入真空室内，将检漏仪与真空室相连接后进行检漏。

抽真空后由于压差作用，示漏气体即可通过漏孔从被检件内部流出，然后再经过真空室进入检漏仪，按检漏仪的输出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

真空电镀设备镀膜成品掉膜

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，实验室真空蒸发镀膜设备哪家优惠，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

实验室真空蒸发镀膜设备实验室真空蒸发镀膜设备

真空电镀设备镀膜成品掉膜

真空电镀设备是目前制作真空条件应用****为广泛的设备。真空电镀设备包括很多类，如离子蒸发、磁控溅射、电子枪等。真空电镀设备镀出的薄膜具有硬度高、耐腐蚀、表面光滑、美观等优点。有些客户向我们反映，有时镀膜成品会出现掉膜现象，这是怎么回事？今天，驰诚小编就帮用户分析一下镀膜产品掉膜的原因。膜层脱落的原因有很多也很复杂，我们可以从以下几点进行分析：

1、检查产品表面的清洁度

镀膜产品表面的洁净度会影响镀膜的附着能力，保持表面清洁度可以通过在离子源清洗时放大气、延长时间。

2、注意清洗过程

镀膜前是否清洗到位，是否有更换清洗液。

3、镀膜工艺

检查工艺参数是否有变动，对什么时间和电流做适当调整。

4、靶材

检查靶材，如钛靶，检查是否*，要及时更换。

5、真空腔是否故障

对真空腔进行检漏。

6、观察产品表面是否氧化

产品表面氧化的原因有很多，根据实际情况进行判断和处理。

遇到掉膜问题的。可以根据以上步骤进行分析和排除。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

蒸发镀膜机—北京泰科诺科技有限公司

蒸发镀膜机技术参数 Thermal Evaporator Technical Parameters：

型号Model: ZHD300/ZHD400/ZHDS400

镀膜方式Coating Method: 电阻蒸发/多源蒸发

腔室结构 Chamber Structure: 玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门

腔室尺寸Chamber Size: Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm

加热温度 Baking Temp: 室温～300℃

旋转基片台 Rotating Substrate Holder: Φ100mm/120mm×120mm

基片台升降 Substrate Holder Lifting: 无/手动调节升降高度0～80mm

膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity: 基片台Φ80mm范围内≤±5.0%

蒸发源Evaporation Source: 2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)

控制方式Operation Method: PLC

功率 Power: ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW

其他选配 Other Opti*: 蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；

3. 一体化设计，占地面积小，可单独或与手套箱集成使用；

4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。

真空镀膜机知识分享：

蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别？

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。

真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。

离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴****的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜****常用的是电阻加热法，实验室真空蒸发镀膜设备哪家优惠，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，实验室真空蒸发镀膜设备哪家优惠，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二****溅射利用的是直流辉光放电；三****溅射是利用热阴****支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。

实验室真空蒸发镀膜设备