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北京泰科诺近20年行业经验，国内****真空镀膜设备制造商；其中蒸发类产品市场占有率达80%以上，可现货交付，专为各大高校实验室，科研院所和生产企业服务。****生产蒸发镀膜机ZHD系列，磁控溅射镀膜机JCP系列，多弧离子溅射镀膜机TSU系列，电子束蒸发镀膜机TEMD系列等等，欢迎咨询！

ZHD400-热蒸发镀膜机 Thermal Evaportor

产品参数：

型号： ZHD400

镀膜方式： 多源蒸发镀膜

真空腔室结构： 立式方形前开门结构

真空腔室尺寸 L400×W440×H450mm

加热温度室温～300℃

旋转基片台： 120mm×120mm

基片台升降： 手动调节升降高度0～80mm

膜厚不均匀性： ≤±5.0%

蒸发源： 2～3组金属源，2～3组有机源

控制方式： PLC控制

占地面积： 主机L1750×W850×H1910mm

总功率： ≥8KW

选配 ：冷水机、膜厚仪，电源等等

学校真空镀膜装置

浅析真空镀膜机检漏方法

真空镀膜机厂家介绍查看漏气状况是确保真空镀膜机真空度的一项查看办法，简称检漏，真空度的凹凸是直接影响到镀膜作用的，所以检漏是必不可少的。

通常真空室内漏气都是从室壁上的一些小孔或部件之前的衔接位细缝中发生，当抽气系统抽气后使真空室内压强降低，外部与内部的压强差使气体从压强高的外部流向压强低的真空室内，形成真空度降低。

真空镀膜机厂家介绍在检漏的过程中，需求注意一些问题，才能把检漏作业做好。

1.，要承认漏气究竟的虚漏仍是实漏，因为工件资料加热后都会在不同程度上发生气体，有也许误以为是从外部流进的气体，这即是虚漏，要扫除这种状况。

2，测验好真空室的气体密封功能，确保气密功能符合要求。

3，查看漏孔的巨细，形状、方位，漏气的速度，制备出可处理方案并施行。

4，断定检查仪器的可检漏率和检漏灵敏性，以大规模的检查出漏气状况，****一些漏孔被疏忽，进步检漏的准确性。

6，掌握检漏仪器的反应时刻和消除时刻，把时刻掌握好，确保检漏仪器作业到位，时刻少了，检漏作用必定差，时刻长了，糟蹋检漏气体和人工电费。

7，还要****漏孔阻塞，有时因为操作失误，检漏过程中，一些尘埃或液体等把漏孔阻塞了，以为在该方位没有漏孔，但当这些阻塞物因为内外压强区别进步或别的缘由使漏孔不堵了，那漏气仍是存在的。

为真空镀膜设备做好检漏作业是很主要的，形成真空度降低的缘由多种多样，咱们要逐个的处理这些缘由，安稳镀膜的作用。学校真空镀膜装置

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蒸发镀膜机—北京泰科诺科技有限公司

蒸发镀膜机技术参数 Thermal Evaporator Technical Parameters：

型号Model: ZHD300/ZHD400/ZHDS400

镀膜方式Coating Method: 电阻蒸发/多源蒸发

腔室结构 Chamber Structure: 玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门

腔室尺寸Chamber Size: Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm

加热温度 Baking Temp: 室温～300℃

旋转基片台 Rotating Substrate Holder: Φ100mm/120mm×120mm

基片台升降 Substrate Holder Lifting: 无/手动调节升降高度0～80mm

膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity: 基片台Φ80mm范围内≤±5.0%

蒸发源Evaporation Source: 2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)

控制方式Operation Method: PLC

功率 Power: ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW

其他选配 Other Opti*: 蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；

3. 一体化设计，占地面积小，学校真空镀膜装置价格，可单独或与手套箱集成使用；

4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。

真空镀膜机知识分享：

蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别？

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。

真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，学校真空镀膜装置，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。

离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴****的靶，学校真空镀膜装置价格，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜****常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，学校真空镀膜装置价格，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二****溅射利用的是直流辉光放电；三****溅射是利用热阴****支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。

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