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抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝1对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意****试样飞出和因压力太大而产生新磨痕.同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加抛光液或其它抛光助剂，使抛光织物保持一定湿度。

粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除.精抛时转盘速度可适当****，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜.精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕.

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