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矩形平面磁控溅射靶的磁路系统主要由内磁条、外磁环及轭铁组成,如图员圆鄄圆 所示。其中内磁条和外磁环的磁荷密度分别为 σ圆 和 σ员,镀金,且符号相反。内磁条和外磁环可以分解成若干个单元磁体,图 员圆鄄圆 中外磁环分成源 个单元磁体,内磁条为员 个单元磁体,各自尺寸及其中心与孕点距离如图所示。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

设薄膜进入辊面时与弯辊轴线所决定的平面间夹角为α,离开辊面时的夹角为β,镀金工艺,则其变化如图2 6所示.薄膜在辊面上的包角为α+β.在辊未变弯前,薄膜边部从A点进入辊面,B点离开,则AB=R(α+β).式中R为辊面半径,而直线AB=R(sinα+sinβ).当辊面变弯时,由于辊面各点均绕轴线旋转,则辊上的A点将沿AC前进。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

(4)每种薄膜都可以通过微调阀精111确的控制镀膜室中残余气体

成分和含量,pvd镀金是什么,从而****蒸镀的材料氧化,pvd镀金会不会掉色,可以把氧的含量降低到****

的程度,还可以充入惰性气体等,这一点湿式镀膜是无法做到的。

(5)由于镀膜设备的不断改进,镀膜过程可以实现连续化从

可以大大地****产品的产量,而且在生产过程中没有对环境的

染。

(6)由于在真空条件下制膜,所以膜的纯度高,密实性好,表

光亮不需要再加工,这就使得膜层的力学性能和化学性能比电

膜和化学膜好。


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