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靶材的结晶粒子直径和均匀性 已被认为是影响薄膜沉 积率的关键因素。另外,薄膜的纯度与靶材的纯度关 系****大,过去99.995 %(4 N5) 纯度的铜靶,或许能够满 足半导体厂商0.3 5pm 工艺的需求,但是却无法满足如今0.2 5um的工艺要求,****回收铟丝, 而未米的 0.18um }艺甚至0.13m工艺,所需要的靶材纯度将要求达 到5甚至 6N以上。苏州ITO靶材回收,昆山ITO靶材回收,江苏ITO靶材回收。


纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”,*回收铟废水, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。苏州ITO靶材回收,昆山ITO靶材回收,江苏ITO靶材回收。


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