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电镀光亮镍化学镍,于都电镀厂,虔诚精密电镀

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深孔加工出阴模。采用等离子催化的离子扫描蚀刻技术进行图形的深孔位加工形成阴模式母型。这一步骤与集成电路中的光刻过程是大同小异的。只不过这里要进行的加工难度比集成电路的加工要大一些。由于这时微型加工技术所要求的深度大大超过了原来硅片的光刻深度。制作阻挡层。在阴模加工完成后,再在阴模母型内以物理方法形成阻挡层,电镀光亮镍化学镍,通常是沉积铬或铜。以便再在其上电沉积出作为牺牲层的隔离层,并****镀层金属向模腔内的扩散。

与一般不锈钢材料电镀硬铬相同,上饶电镀光亮镍化学镍,在电镀前应对不镀部分进行绝缘保护,零件经前处理后浸入50~60℃的热水中预热,于都电镀厂,使零件的温度与电镀硬铬镀液的温度趋于一致。零件应带电人槽,采用阶梯小电流。阶梯小电流大小因面积不同应作相应的调节,面积小时阶梯小电流应减小,面积大时阶梯小电流应*。对形状复杂的零件,所用的阶梯小电流停留时间较长,且停留时间随电流的*而缩短,效果很好。

调节器盖零件(材料为AMS5616,质量分数为0.17%C,13%Cr,兴国电镀,2%Ni,3%W)底平面电镀硬铬时,由于底平面形状(见图1)较为复杂,虽然采用吹湿砂活化表面


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