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现代拉单晶的坩埚一般是采用电弧法生产，坩埚，半透明状，坩埚*，是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。现代的石英坩埚则存在二种结构，外侧是一层具有高气泡密度的区域，称为气泡复合层，内侧则是一层3~5mm的透明层，称之为气泡空乏层。气泡复合层的目的是在与均匀的辐射有加热器所提供的辐射热源。气泡空乏层的目的在于降低与溶液接触区域的气泡密度，而****单晶生长的成功率及晶棒品质。

坩埚出现问题的处理方法：

1.在稀盐酸或稀硝1酸。

2.内煮沸(用稀盐酸比较方便，配成（1.5-2）mol/L的盐酸溶液)注意所用的酸盐中不得含有硝1酸，1盐，坩埚经销商，卤素等到氧化剂.

3.如用稀酸尚不能洗净时，则用焦硫1酸钾，坩埚哪家好，碳酸钠或硼砂熔融清洗

4.如仍有污点，或表面发乌，则用通过100筛目的无尖锐棱角的细砂，用水润湿进行轻轻磨擦，使表面恢复。

国外的热分析坩埚厂家拥有多年的生产经验，生产设备也比较****，所以生产的热分析坩埚累积质量误差很小。而国产的就做不到这一点。相对来说误差比国外要大。样品盘压样机压样后实验的过程中会发现用进口的热分析坩埚做实验，数据都很稳定，而国产的样品盘基线浮动比较大。其实国内生产厂家一样可以可以做到降低质量误差，只不过需要很大的人力物力，所以基本上很少有厂家会注重这点。