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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材选择规程

分类:1.薄膜应用分类[1]:半导体功能(HfO2)、磁记录、巨磁电阻(稀土合金或氧化物类)、显示技术(ITO)、超导(Y2BaCu3O7);2.材料组成:金属(合金)、氧化物类(Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等)、氟化物类(MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等)、其它化合物类(ZnS、ZnSe、PbTe等)。

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由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子,通常是放热反应,银靶采购,反应生成热必须有传导出去的途径,银靶,否则,哪里有银靶,该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导,所以,化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。


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北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

解决靶材的结晶取向

靶材溅射时, 靶材中的原子****容易沿着密排面方向择优溅射出来,材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因此, 获得一定结晶取向的靶材结构对解决上述问题至关重要。但要使靶材*获得一定取向的结晶结构, 存在较大难度, 只有根据靶材的*结构特点, 采用不同的成型方法, 热处理工艺进行控制。

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