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如今一般采取一种方法生产 I T O 靶材，利用 L } I R F反应溅射镀膜． 它具有沉积速度快．且能****控制膜厚，电导率高，*回收铟渣，薄膜的一致性好，与基板的附着力强等优点 l。但是靶材制作困难，这是因为氧化铟和 氧化的锡不容易烧结在一起。一般采用 Z r O2 、B i 2 O 3 、 C e O 等作为烧结添加剂，能够获得密度为理论值的 9 3 %~9 8 %的靶材，这种方式形成的 I T O薄膜的性能 与添加剂的关系****大。苏州ITO靶材回收，回收铟，昆山ITO靶材回收，江苏ITO靶材回收。

在被溅射的靶****（阴****）与阳****之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），永的久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压，从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*，在阴****附近形成高密度的等离子体。苏州ITO靶材回收，昆山ITO靶材回收，江苏ITO靶材回收。

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