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UV光解废气净化设备原理:

  UV光解废气净化设备采用高能C波段(仅次于切割不锈钢的激光,强于*弧焊光源的数十倍强度)在设备内,高强分解恶臭物质分子链,改变物质结构,将高分子污染物质,裂解、氧化成为低分子无害物质,呼伦贝尔vocs设备,如水和二氧化碳等。

催化原理:

  1、UV光解废气净化设备O3强催化氧化剂进行废气催化氧化,vocs设备价格,可有效地杀灭*,vocs设备购买,将**物质*且改变成为低分子无害物质。

  2、UV光解废气净化设备催化剂涂层,在C波段激光刺激它产生活性,强化催化氧化作用。

3、UV光解废气净化设备在分解过程中产生高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV O2→O- O*(活性氧)O O2-O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有****强的氧化作用,对恶臭气体及其它剌激性异味有****强的清除效果。O3也为强催化氧化剂进行废气催化氧化,裂解恶臭气体中*的分子键,**的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,vocs设备原理,*达到脱臭及杀灭菌的目的。








废气处理达标排放

经以上UV/O3高能光解废气净化设备处理的排放废气均可达到《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996)及《恶臭污染物排放标准》(GB14554-1993)的要求。

UV光解净化技术,一定程度上,就是模拟太阳中紫外光分解净化废气的分解机理,通过技术手段针对性的,人为控制了紫外线分解废气的分解能量、过程,短时间内增强紫外线能量的释放,加速了这种分解氧化速度,以达到“以能量换取时间”的目的。恶臭物质能否被裂解,取决于其化学键键能是否比所提供的UV光子的能量要低。裂解反应的时间****短(<0.01s),氧化反应的时间需2-3s。提供的UV光子总功率不够或者含氧量不足,会因为裂解或氧化不完全而生成一些中间副产物,从而影响净化效率。对于高浓度大分子的有机恶臭物质体现得较为明显。光催化氧化除臭设备的长期稳定、*,需要反应温度<70℃,粉尘量<100mg/m3,相对湿度<99%。条件满足的情况下,光催化氧化除臭设备的高净化效率可达到95%以上。

****除恶臭:****去除污染物以及各种恶臭味;脱臭*可达95%以上;适应性强:可适应高浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理;运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护;

UV光氧净化技术工作原理

利用高能高臭氧UV紫外线光束照射有机气体及空气中的氧分子,裂解有机气体的分子键,并分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,UV+O2→O- O*活性氧O O2→O3臭氧。游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物,如CO2、H2O等。从而达到净化气体的效果。净化能力可达99%。

反应工程式:

1、UV 高分子有机物→低分子有机物

2、UV 空气 O2 →O3

3、低分子有机物 O3→ CO2 H2O N2


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