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蓝宝石衬底上典型的UV-LED外延结构图。与GaN基蓝光LED相比,盐城紫外线传感器,深紫外LED的研制面临着许多*的技术困难,如:高Al组分AlGaN的材料的外延生长困难,一般而言,uv紫外线传感器,Al组分越高,晶体质量越低,位错密度普遍在109cm-2—1010cm-2乃至更高; AlGaN材料的掺杂与GaN相比要困难得多,不论n型掺杂还是p型掺杂,随着Al组分的增加,外延层的电导率迅速降低,尤其是p-AlGaN的掺杂尤为棘手,掺杂剂Mg的激i活效率低下,导致空穴不足,导电性和发光效率锐降;同时紫外LED往往在平面蓝宝石衬底上外延生长,出光效率低等等。针对这些技术难点,目前已经发展出一些解决方案,手机紫外线传感器,如AlN同质衬底技术、纳米图形衬底外延技术(NPSS)和透明p型层技术等等。

从深紫外LED的发光波长与外*效率(EQE)的角度,总结了主要研究机构和公司在深紫外LED领域报导的代表性结果。可以看出,紫外线传感器价格,深紫外LED的EQE基本不超过10%,大部分*效率在5%以下。实际上,目前可购买的UVB、UVC波段LED产品的*效率往往只有1%—2%。这与浅紫外和蓝光LED的水准显然相去甚远。


美国光学与光子学界如何能发明一种将光子和电子元件无缝集成在一起的主流平台,实现系统芯片(system on chip, SOC)的低成本制造和封装,并且应用到通信、传感、医疗、能源和*等领域中。

完成这一挑战性任务将有可能使系统芯片保持类似于摩尔定律的指数级性能增长,同时也与第五大挑战任务密切关联。相对于目前的电子元件集成或电子和光子元件在大尺寸上的集成,芯片级的光子和电子元件无缝集成技术将有可能显著提升产品的速度和性能。这将在降低成本的同时


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