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当能量高于半导体禁带宽度的光子照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,从价带跃迁到导带,从而产生带正电荷的光致空穴和带负电荷的光生电子。光致空穴的强氧化能力和光生电子的还原能力导致半导体光催化剂引发一系列光催化反应的发生。

半导体光催化氧化的羟基自由基反应机理,光氧催化废气装置定做,得到大多数学者的认同。即当TiO2等半导体粒子与水接触时,光氧催化废气装置批发,半导体表面产生高密度的羟基。由于羟基的氧化电位在半导体的价带位置以上,而且又是表面高密度的物种






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然后迅速迁移到其表面并被吸附的氧和水分,光氧催化废气装置厂家,产生活性自由氢氧基(-OH)和活性氧(.O),巴彦淖尔光氧催化废气装置,当污染物以及吸附其表面时,就会发生链式降解反应。是光催化机和高’能离子除臭机的一个组合。合理的光催化高能离子除臭机除臭效果可以和生物除臭相媲美。同时占用空间小,维护简单的的优点。光催化是用大功率的UV紫外线灯管配合纳米级金属氧化物(*催化剂一般使用纳米级锐钛级二氧化钛涂料,配合二氧化锆。氧化铝等组合成为光催化涂料)


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