真空蒸镀、 昆山达宇特、宁波蒸镀

真空蒸镀原理。将被镀薄膜基材(筒状

装在真空蒸镀机中，蒸镀薄膜，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10-2～1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。 　　通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在25～500nm，镀铝薄膜的宽度为800mm～2000mm。 　　2.蒸镀方法。在基材表面蒸镀铝的方法有直接蒸镀法和转移法两种。

真空镀膜材料与湿式镀膜材料的区别

真空镀膜材料技术与湿式镀膜材料技术相比具有明显优点：

1、膜材和基体选材广泛，宁波蒸镀，膜的厚度可以进行控制以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。

2、真空条件下制备薄膜，环境清洁，真空蒸镀，膜不易受到污染，因此，可获得致密性好、纯度高、膜层均匀的膜。

3、与基体附着强度好，膜层牢固。

4、真空镀膜既不产生肺液也无环境污染。真空镀膜技术在电子学等方面主要用来制造电阻和电容元 件。