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爱德华iH系列真空泵维修

Edward iH series vacuum pump repair

维修型号：iH80、iH600、iH1000等 爱德华是半导体和平板显示器工艺方面的供应商，集工艺实现技术，材料和服务于一体。爱德华真空泵经长时间使用，已被正面其达到高运行标准。通过延长使用寿命、****正常运行时间、增加产量，使其拥有了可靠的*，同时又具有占地面积小，爱德华真空泵维修包，拥有成本低等优点。

针对各种困难工艺，例如会生成颗粒、可凝结和腐蚀性副产品的PECVD等，IH系列提供****高的可靠性。iH干泵系列的峰值抽速从80到1800立方米/小时，其中iH1800干泵是专为高排量应用而设计的。

化学气相沉淀化学气相沉淀 (CVD) 系统具有 多种配置用于沉积多种类型的薄膜。制程 还以不同的压力和流量状态运行，爱德华真空泵油 19#，其中的许多状态 都使用含氟的干燥清洁制程。所有这些可变因素意味着您 需要咨询我们的应用工程师之一来选择适当的泵 和气体减排系统以便大程度地延长我们产品的维修间隔并 延长您制程的正常运行时间。

干泵选择

CVD 制程通常需要通过选择适当的 干泵产品来克服四个特定挑战。这些挑战是：

粉末

许多制程会产生 大量粉末副产品。需要将真空泵设计成 能够处理这些粉末而不被卡住。在某些情况下，粉末实际上可能 很粘或需要高温运行才能确保粉末中夹带的其他 副产品不在泵内部冷凝并卡住泵机构。 对于几乎所有产生粉末的制程，您将不得不使用 采用高扭矩电机的泵，爱德华 真空泵油，以确保泵在应力下保持 旋转。

冷凝

半导体 制程的某些副产品含有气体，当气体分压 增加或与冷表面接触时，这些气体会从气 相变为固相。在泵送这些副产品时， 您将需要非常热的泵，是从入口到出口 具有尽可能一致的温度分布的泵。

腐蚀

有些制程 需要泵送卤化物。尤其是需要含氟的清洁制程来 保持舱室的清洁性，但被激的氟自由基 可能会侵蚀泵的内表面。如果制程主要使用 可能对泵造成腐蚀的*，您需要确保可以 将泵温度设置为一个较低值以降低腐蚀风险。我们的泵设计 具有可选的温度设*和高旋转 速度以降低腐蚀风险并降低泵中不可避免 发生的总体材料损失速率。对于某些 CVD 制程，鸡西爱德华真空泵，需要在温度设*上 达到平衡，以确保避免任何冷凝问题， 同时不使腐蚀速度过高。