上海镍铬铝硅合金|石久高研|镍铬铝硅合金厂
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- 名称北京石久高研金属材料有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 史永泰
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价格
面议
点此议价
- 采购量 不限制
- 发布日期 2018-03-09 04:11 至 长期有效
上海镍铬铝硅合金|石久高研|镍铬铝硅合金厂产品详情
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,镍铬铝硅合金价格,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材要求:
纯度 陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,陶瓷靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展,硅器件布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格,其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴****源,固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,如:碱金属离子(Na 、K )易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,降低元器件性能,其含量须在0.01ppm(重量)以下。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材使用指南及注意事项
靶材清洁
靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。
金属靶材可以通过四步清洁,镍铬铝硅合金厂,
*步用在酒精中浸泡过的无绒软布清洁;
第2步与*步类似用酒精清洁;
第3步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。 氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。
第4步在清除完有污垢的区域后,再用高压低水气的*气冲洗靶材, 以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒.
靶材安装
靶材安装过程中****重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲,背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响,镍铬铝硅合金供应商,导致在溅射过程中热量无法散发****终会造成靶材开裂或脱靶 为确保足够的导热性,可以在阴****冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的平整度,同时确保O型密封圈始终在位置上。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
解决溅射过程中的微粒飞溅
溅射镀膜的过程中,上海镍铬铝硅合金, 致密度较小的溅射靶受轰击时, 由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放, 造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅, 或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅。这些微粒的出现会降低薄膜品质。如在VLSI 制作工艺过程中,每150 mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样解决溅射靶材在溅射过程中的微粒飞溅也是今后研究与设计靶材的发展方向之一。一般来说, 粉末冶金工艺制备的溅射靶材大都存在致密度低的问题,容易造成微粒飞溅。因此,对熔融铸造法制备的靶材,可采用适当的热加工或热处理来****其致密度;而对粉末冶金溅射靶材则应****原料粉末纯度,并采用等离子烧结、微波烧结等快速致密化技术,以降低靶材孔隙率。
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