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氧化铬、北京石久高研、氧化铬价格

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。


生产靶材的一个重要步骤就是“压延”。这并不是简单的把厚饼变成薄饼的过程,而是通过反复多次特定方向的形变来对金属内部的微观*结构进行控制,决定着靶材工艺的可靠性和稳定性。每次压延的压力值与温度是姚力军团队经过上千次试验计算得出的。

在将金属靶材焊接到金属底座托盘时,会用到江丰电子****贵的单体设备——热等静压机,该设备造价达几千万元。


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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项

靶材预溅射

靶材预溅射建议采用纯*气进行溅射,可以起到清洁靶材表面的作用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率,氧化铬出售,陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W小时/平方厘米。金属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块,一个合理的功率加大速率为1.5W小时/平方厘米。

在进行预溅射的同时需要检查靶材起弧状况,预溅射时间一般为10分钟左右。如没有起弧现象,继续提升溅射功率到设定功率。根据经验,金属靶材可承受的溅射功率为25watts/平方厘米,陶瓷靶材为10watts/平方厘米。请同时参考用户系统操作手册中关于溅射时真空腔体压力的设定根据经验,氧化铬,一般应确保冷却水出水口的水温应低于35摄氏度,但****重要的是确保冷却水的循环系统能有效工作,通过冷却水的快速循环带走热量,是确保能以较高功率连续溅射的一项重要保障。对于金属靶材一般建议冷却水流量为20LPM水压在5GMP左右;对于陶瓷靶材一般建议水流量在30LPM水压在9GMP左右。

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磁控溅射靶材

京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

磁控溅射靶材应用领域

存储用在储存技术方面,高密度、大容量硬盘的发展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的 T b F e C o合金靶材还在进一步发展,用它制造的磁光 盘具有存储容量大,寿命长,可反复无接触擦写的特 点。如今开发出来的磁光盘,氧化铬公司,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 层复合膜结构, T bF eCo/AI结构的Kerr 旋转角达到5 8,而T b F e Co f F a 则可以接近0.8。经过研究发现, 低磁导率的靶材高交流局部放电电压 l *电强度。

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