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真空镀膜靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶*的影响因素

影响靶*的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶*。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下，参与化合物生成的反应气体量增加，化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度，化合物覆盖面积增加，如果不能及时调整反应气体流量，化合物覆盖面积增加的速率得不到*，溅射沟道将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶完全*，在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。

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磁控溅射镀膜靶材分类

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溅射靶材

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高纯铜靶材主要应用领域

平面显示器产业：平面显示器包括液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)等等。目前，在平面显示器市场中以液晶显示器(LCD)为主，其市场占有率超过85%，被认为是目前****有应用前景的平面显示器件，广泛应用于笔记本电脑显示器、台式电脑监视器和高清晰电视机。LCD的制造工艺较复杂，其中降低反射层、透明电****、发射****与阴****均由溅射方法形成，因此，在LCD产业中溅射靶材起着重要作用。

高纯度铜靶材在以上领域都有广泛应用，并且对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求。

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