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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，氧化铬， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，氧化铬厂，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于*材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。

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解决溅射过程中的微粒飞溅

溅射镀膜的过程中，氧化铬出售， 致密度较小的溅射靶受轰击时， 由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放， 造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅， 或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅。这些微粒的出现会降低薄膜品质。如在VLSI 制作工艺过程中，每150 mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样解决溅射靶材在溅射过程中的微粒飞溅也是今后研究与设计靶材的发展方向之一。一般来说， 粉末冶金工艺制备的溅射靶材大都存在致密度低的问题，氧化铬厂家，容易造成微粒飞溅。因此，对熔融铸造法制备的靶材，可采用适当的热加工或热处理来****其致密度；而对粉末冶金溅射靶材则应****原料粉末纯度，并采用等离子烧结、微波烧结等快速致密化技术，以降低靶材孔隙率。

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溅射靶材清洁

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

金属靶材可以通过四步清洁，*步用无绒软布清洁；第二步与*步类似用酒精清洁；第三步用去离子水清洗。 氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。第四步在清除完有污垢的区域后，再用高压低水气的*气冲洗靶材。

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