石久高研|氧化锑|氧化锑厂

PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

1.靶材的纯度，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，晶粒间隙越小，压制紧密，靶材质量越好。可以用称量法检验；

4.*均匀性：对于两种成份以上的合成靶，特别是相互难融的成分，还可以做金相检验，看成分、*是否均匀一致；

5.机械性能:有些靶材，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

溅射靶材磁控溅射的原理

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材磁控溅射的原理

磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与*原子发生碰撞，电离出大量的*离子和电子，氧化锑批发价格，电子飞向基片。*离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，　　在运动过程中不断的与*原子发生碰撞电离出大量的*离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，****终沉积在基片上。

在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压，从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*，在阴****附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。

而射频溅射的使用范围更为广泛，氧化锑出售，除可溅射导电材料外，氧化锑，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率****后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

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光学镀膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

测试方法

判断和测试*磨损膜*性的****根本的方法是临床使用，让戴镜者配戴一段时间，然后用显微镜观察并比镜片的磨损情况。当然，这通常是在这一新技术正式推广前所采用的方法，目前我们常用的较迅速、直观的测试方法是：

1）磨砂试验

将镜片置于盛有砂砾的宣传品内（规定了砂砾的粒度和硬度)，在一定的控制下作来回磨擦。结束后用雾度计测试镜片磨擦前后的光线漫反射量，并且与标准镜片作比较。

2）钢丝绒试验

用一种规定的钢丝绒，在一定的压力和速度下，在镜片表面上磨擦一珲的次数，然后用雾度计测试镜片磨擦前后的光线漫反射量，氧化锑厂家，并且与标准镜片作比较。当然，我们也可以手工操作，对二片镜片用同样的压力磨擦同样的次数，然后用肉眼观察和比较。

上述两种测试方法的结果与戴镜者长期配戴的临床结果比较接近。

3）减反射膜和*磨损膜的关系

镜片表面的减反射膜层是一种非常薄的无机金属氧化物材料（厚度低于1微米），硬且脆。当镀于玻璃镜片上时，由于片基比较硬，砂砾在其上面划过，膜层相对不容易产生划痕；但是减反射膜镀于有机镜片上时，由于片基较软，砂砾在膜层上划过，膜层很容易产生划痕。

因此有机镜片在镀减反射膜前必须要镀*磨损膜，而且两种膜层的硬度必须相匹配。

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