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石久高研(图)_氧化锑报价_氧化锑

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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项


溅射准备

保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。 为保持镀膜的成分特性,溅射气体(*气或氧气)必须清洁并干燥,溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出,达到工艺所要求的真空度。 暗区屏蔽罩,腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气清除腔体四周前期溅射剩余物,再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后, 再用酒精去离子水清洗,同时建议使用工业吸尘器进行辅助清洁。 高展金属生产的靶材采用真空密封塑料袋包装, 内置防潮剂。使用靶材时请不要用手直接接触靶材。

注意:使用靶材时请配带干净而且不会起绒的保护手套,氧化锑,一定要避免用手直接接触靶材


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光学镀膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

技术特征

1)*代*磨损膜技术

*磨损膜始于20世纪70年代初,当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高,而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面,形成一层非常硬的*磨损膜,但由于其热胀系数与片基材料的不匹配,很容易脱膜和膜层脆裂,因此*磨损效果不理想。

2)第二代*磨损膜技术

20世纪80年代以后,研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关,膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性,即有些材料的硬度较高,但变形较小,而有些材料硬度较低,但变形较大。第二代的*磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。

3)第三代*磨损膜技术

第三代的*磨损膜技术是20世纪90年代以后发展起来的,主要是为了解决有机镜片镀上减反射膜层后的*性问题。由于有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差别,新的理论认为在两者之间需要有一层*磨损膜层,使镜片在受到砂砾磨擦时能起缓冲作用,并而不容易产生划痕。第三代*磨损膜层材料的硬度介于减反射膜和镜片片基的硬度之间,其磨擦系数低且不易脆裂。

4)第四代*磨损膜技术

第四代的*膜技术是采用了硅原子,例如法国依视路公司的帝镀斯(TITUS)加硬液中既含有有机基质,又含有包括硅元素的无机超微粒物,使*磨损膜具备韧性的同时又****了硬度。现代的镀*磨损膜技术****主要的是采用浸泡法,即镜片经过多道清洗后,浸入加硬液中,一定时间后,以一定的速度提起。这一速度与加硬液的黏度有关,氧化锑出售,并对*磨损膜层的厚度起决定作用。提起后在100 °C左右的烘箱中聚合4-5小时,镀层厚约3-5微米。

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减反射膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

原理

减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同,氧化锑批发价格,波长相同的光波叠加,那么光波的振幅增强;如果二个光波原由相同,波程相差,如果这二个光波叠加,那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理,在镜片的表面镀上减反射膜,使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰,从而抵消了反射光,达到减反射的效果。

1)振幅条件

膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。

2)位相条件

膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时,氧化锑价格,d=555/4=139nm

对于减反射膜层,许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波(波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄(〈139nm),反射光会显出浅棕*,如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚( 〉139nm)。

镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射,但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色,但残留颜色哪种是好的,其实并没有标准,目前主要是以个人对颜色的喜好为主,较多为绿色的色系。

我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同,因此在镜片*部分呈绿色,而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。

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